DIC EXPO 2021 | 晶洲裝備亮相，并榮獲DIC AWARD顯示裝備創(chuàng)新金獎
2021-07-09 14:08:50
6月30日，由中國光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會液晶分會主辦的DIC 2021國際顯示技術(shù)及應(yīng)用創(chuàng)新展在上海新國際博覽中心順利開幕，晶洲裝備應(yīng)邀參展，發(fā)揚(yáng)裝備國產(chǎn)化，展示濕制程裝備國產(chǎn)化成果。
本次展會蘇州晶洲裝備科技有限公司以國際視野、國產(chǎn)裝備為企業(yè)口號，在平板顯示領(lǐng)域，從清洗、顯影、刻蝕，到剝離、蒸鍍前清洗，提供了切實(shí)有效的解決方案，以G8.5濕法刻蝕設(shè)備為代表，展出了清洗機(jī)、顯影機(jī)、濕法刻蝕機(jī)、光阻剝離機(jī)、掩模版清洗機(jī)等一系列濕制程主工藝設(shè)備。展會首日，晶洲裝備的展臺就吸引了無數(shù)專家、參展者的駐足，對晶洲裝備所展出的產(chǎn)品表示了極大的興趣，很多客戶都現(xiàn)場進(jìn)行了詳細(xì)咨詢，希望通過這次機(jī)會進(jìn)行深入合作。同時，晶洲裝備也獲得了行業(yè)內(nèi)人士的高度認(rèn)可，在30日晚的DIC AWARD 國際顯示技術(shù)創(chuàng)新大獎中，經(jīng)過25位專家的評審，我司G8.5濕法刻蝕設(shè)備榮獲裝備創(chuàng)新金獎，總經(jīng)理蔣新先生上臺接受了頒獎。DIC AWARD作為我國面板業(yè)界極具影響力和權(quán)威性的獎項(xiàng)，旨在對顯示產(chǎn)業(yè)技術(shù)未來發(fā)展趨勢、產(chǎn)品與技術(shù)創(chuàng)新、創(chuàng)新應(yīng)用等各方面具有突出貢獻(xiàn)和重要影響的產(chǎn)品或解決方案進(jìn)行表彰。中國作為全球最大的消費(fèi)電子市場，在平板顯示領(lǐng)域，由于國內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展晚于日韓企業(yè)，該領(lǐng)域的前、中段生產(chǎn)設(shè)備主要由國外企業(yè)壟斷，在一些核心設(shè)備上無法突破，屢屢受制于人。而由于研發(fā)周期長、設(shè)計門檻高、資金投入大，國內(nèi)廠商少有涉足顯示設(shè)備領(lǐng)域。晶洲裝備自主研發(fā)的G8.5濕法刻蝕設(shè)備，在設(shè)備綜合性能方面，包括設(shè)備穩(wěn)定性、安全性、均一性等都達(dá)到甚至超過進(jìn)口設(shè)備水平，并且由于本土優(yōu)勢，在成本、售后、響應(yīng)速度等方面遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)越于國外廠商，專家們對晶洲裝備在創(chuàng)造性、創(chuàng)新性等成果方面給予了充分的肯定。晶洲裝備也將以此次獲獎為契機(jī)，在今后的發(fā)展中繼續(xù)保持創(chuàng)新勢頭，將濕制程設(shè)備繼續(xù)做好、做大、做強(qiáng)、做專。
